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產(chǎn)品中心

Product Center

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心輪廓儀接觸式輪廓儀P17自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀

自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀P17。該系統(tǒng)支持對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力2D和3D測(cè)量,掃描可達(dá)200mm無需圖像拼接。結(jié)合UltraLite®傳感器、恒力控制和超平掃描平臺(tái),有出色測(cè)量穩(wěn)定性。

產(chǎn)品型號(hào):P17
更新時(shí)間:2024-06-17
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:1813
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品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)品種類接觸式輪廓儀/粗糙度儀產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,航天,綜合

一、自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀的功能

    通過點(diǎn)擊式平臺(tái)控制、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及光學(xué)變焦相機(jī)等功能,程序設(shè)置簡(jiǎn)便快速。 P-17有用于量化表面形貌的各種濾鏡、調(diào)平和分析算法,可支持2D或3D測(cè)量。 圖案識(shí)別、排序和特征檢測(cè)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。

  設(shè)備特點(diǎn)

   臺(tái)階高度:幾納米至1000μm

   微力恒力控制:0.03至50mg

   樣品全直徑掃描,無需圖像拼接

   視頻:500萬像素高分辨率彩色攝像機(jī)

   圓弧校正:消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差

   軟件:簡(jiǎn)單易用的軟件界面

   生產(chǎn)能力:通過測(cè)序、圖案識(shí)別和SECS/GEM實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化

   主要應(yīng)用

   臺(tái)階高度:2D和3D臺(tái)階高度

   紋理:2D和3D粗糙度和波紋度

   形狀:2D和3D翹曲和形狀

   應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

   缺陷復(fù)檢:2D和3D缺陷表面形貌

   工業(yè)應(yīng)用

   半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

   LED:發(fā)光二極管

   太陽能

   MEMS:微機(jī)電系統(tǒng)

   數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

   汽車

   醫(yī)療設(shè)備

  二、應(yīng)用案例

   臺(tái)階高度

   P-17可以提供納米級(jí)到1000μm的2D和3D臺(tái)階高度的測(cè)量。 這使其能夠量化在蝕刻,濺射,SIMS,沉積,旋涂,CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-17具有恒力控制功能,無論臺(tái)階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測(cè)量穩(wěn)定性并且能夠精確測(cè)量諸如光刻膠等軟性材料。

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紋理:粗糙度和波紋度

   自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀P-17提供2D和3D紋理測(cè)量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測(cè)量值分為粗糙度和波紋度部分,并計(jì)算諸如均方根(RMS)粗糙度之類的參數(shù)。

 

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外形:翹曲和形狀

   P-17可以測(cè)量表面的2D形狀或翹曲。這包括對(duì)晶圓翹曲的測(cè)量,例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因。P-17還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

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應(yīng)力:2D和3D薄膜應(yīng)力

   P-17能夠測(cè)量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測(cè)量樣品翹曲。 然后通過應(yīng)用Stoney方程,利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測(cè)量,無需圖像拼接。3D應(yīng)力的測(cè)量采用多個(gè)2D掃描,并結(jié)合θ平臺(tái)在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對(duì)整個(gè)樣品表面進(jìn)行測(cè)量。

 

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缺陷復(fù)檢

   缺陷復(fù)查用于測(cè)量如劃痕深度之類的缺陷形貌。 缺陷檢測(cè)設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件、對(duì)準(zhǔn)樣本,并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測(cè)量。

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